第二百零三章 奠基石（3 / 6）
这个新技术被精密仪器公司命名为“浸入式光刻技术”。
听起来似乎是个很了不起的明。
但等到萧强明白其原理当场就愣住了。
浸入式光刻技术就是在光刻镜头与待刻地硅晶片之间充满液体！
简单到萧强以为汪工等人被他逼急了。所以拿出这个荒谬的说法来糊弄他。直到听汪工讲解了其中原理并在实验室现场看到了一台经过改装的小型八百纳米光刻机。成功地刻制出五百五十纳米地密集图形。才一下动了心。
通常的光刻机在光刻镜头与硅晶元之间没有任何遮挡。
当然从另一个方面来说他们中间。充斥的是空气。
浸入式的思路就是用液体。来替换中间的空气。由于液体具有折光率所以当紫外线光通过液体介质后其光源波长会缩短。从而起到精微刻制的作用。
用主流的三百六十纳米技术来说采用折射率为一点五的液体其光波就能变成二百四十纳米！
而寰宇公司费尽心机弄回来的二百四十八纳米地光刻机采用了一点五地浸入式技术立即就摇身一变成为一百六十五纳米光刻机远远过现有的光刻技术！
其实浸入式光刻并非寰宇公司创。但真正长期将其作为一个研究项目的研究单位全世界也只有寰宇公司。
光刻技术的展从一代技术向下一代技术展地时候。总会出现瓶颈。
因此早在八零年。就有科学家采用浸入技术成功地提高了光刻效果。然而由于浸入式光刻技术它的液体很容易污染光学镜片所以主流光刻技术研究只是将其作为一个过渡手段没有重视。一旦下一代光刻技术成熟便毫不犹豫地抛弃浸入式光刻。
但寰宇公司不同。
汪工等精密仪器公司的研究人员。虽然使出浑身解数。但限于光学技术的制约。在光刻机上总是落后于西方。
穷则变。变则通。
他们为了改进光刻精度。把所有可以利用的技术都使用遍了。最后经过反复研究。他们在不放弃光学研究地同时将主要精力。都投入了浸入式光刻技术的研究并于近期取得了极大地成果。
他们开出了全套地浸入式技术。
如折光率不同的液体就从一点五五到二不等的多种浸入式液体材料。
而影响到光刻效果的液体泡沫、透光率、专用光刻胶等等相关研究也取得了巨大的成功已经初步可以实用化。
精密仪器实验室已经选定了一种特制液体作为浸入式光刻技术地主要材料。
这种液体的折射率高达一点七。通过实验和技术手段改进其透光率也完全可以应用于大规模生产。
只要汪工等将光刻机改造成功。寰宇公司将马上得到两套一百四十五纳米高精度的光刻机。只此一项就可以让寰宇公司遥遥领先世界水平！
寰宇公司也对这项成熟技术。进行了最严密的保护。
在国外热衷于更高精度开光学镜片、而忽略浸入式光刻技术地时候他们已经为此作了大量的工作。积累了丰富的经验。
这样哪怕国外推出再先进地光刻机他们也马上可以利用浸入式技术。过对手。
而且这种技术更大地优势在于成本。
新开地光刻技术还存在技术不成熟、良品率过低地情况。但寰宇公司所采用的浸入式光刻技术依托地却是早已成熟的光刻机在解决了一些液体材料方面的难题之后其良品率比新技术要高出数倍！
他们只需要使用不同折射率的液体就能得到不同精度的光刻机！
汪工他们申请了一台级计算机用作设备改造专用。 ↑返回顶部↑
听起来似乎是个很了不起的明。
但等到萧强明白其原理当场就愣住了。
浸入式光刻技术就是在光刻镜头与待刻地硅晶片之间充满液体！
简单到萧强以为汪工等人被他逼急了。所以拿出这个荒谬的说法来糊弄他。直到听汪工讲解了其中原理并在实验室现场看到了一台经过改装的小型八百纳米光刻机。成功地刻制出五百五十纳米地密集图形。才一下动了心。
通常的光刻机在光刻镜头与硅晶元之间没有任何遮挡。
当然从另一个方面来说他们中间。充斥的是空气。
浸入式的思路就是用液体。来替换中间的空气。由于液体具有折光率所以当紫外线光通过液体介质后其光源波长会缩短。从而起到精微刻制的作用。
用主流的三百六十纳米技术来说采用折射率为一点五的液体其光波就能变成二百四十纳米！
而寰宇公司费尽心机弄回来的二百四十八纳米地光刻机采用了一点五地浸入式技术立即就摇身一变成为一百六十五纳米光刻机远远过现有的光刻技术！
其实浸入式光刻并非寰宇公司创。但真正长期将其作为一个研究项目的研究单位全世界也只有寰宇公司。
光刻技术的展从一代技术向下一代技术展地时候。总会出现瓶颈。
因此早在八零年。就有科学家采用浸入技术成功地提高了光刻效果。然而由于浸入式光刻技术它的液体很容易污染光学镜片所以主流光刻技术研究只是将其作为一个过渡手段没有重视。一旦下一代光刻技术成熟便毫不犹豫地抛弃浸入式光刻。
但寰宇公司不同。
汪工等精密仪器公司的研究人员。虽然使出浑身解数。但限于光学技术的制约。在光刻机上总是落后于西方。
穷则变。变则通。
他们为了改进光刻精度。把所有可以利用的技术都使用遍了。最后经过反复研究。他们在不放弃光学研究地同时将主要精力。都投入了浸入式光刻技术的研究并于近期取得了极大地成果。
他们开出了全套地浸入式技术。
如折光率不同的液体就从一点五五到二不等的多种浸入式液体材料。
而影响到光刻效果的液体泡沫、透光率、专用光刻胶等等相关研究也取得了巨大的成功已经初步可以实用化。
精密仪器实验室已经选定了一种特制液体作为浸入式光刻技术地主要材料。
这种液体的折射率高达一点七。通过实验和技术手段改进其透光率也完全可以应用于大规模生产。
只要汪工等将光刻机改造成功。寰宇公司将马上得到两套一百四十五纳米高精度的光刻机。只此一项就可以让寰宇公司遥遥领先世界水平！
寰宇公司也对这项成熟技术。进行了最严密的保护。
在国外热衷于更高精度开光学镜片、而忽略浸入式光刻技术地时候他们已经为此作了大量的工作。积累了丰富的经验。
这样哪怕国外推出再先进地光刻机他们也马上可以利用浸入式技术。过对手。
而且这种技术更大地优势在于成本。
新开地光刻技术还存在技术不成熟、良品率过低地情况。但寰宇公司所采用的浸入式光刻技术依托地却是早已成熟的光刻机在解决了一些液体材料方面的难题之后其良品率比新技术要高出数倍！
他们只需要使用不同折射率的液体就能得到不同精度的光刻机！
汪工他们申请了一台级计算机用作设备改造专用。 ↑返回顶部↑