第260章 步步惊心(2)(2 / 3)

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  按理说,一般的科学研究工作者,进行某项研究的思路,都是踏着前人留下的足迹前进。尤其是没有达到终点之前。
  因为改变前人,甚至推翻前人的工作,完全是得不偿失。
  例如两步法的发现,就用时差不多四五年时间。换个人来研究,是不是也要准备个几年时间?
  这怎么选择,不是一目了然嘛!
  但大侠就是大侠,中村拿到这个论文后,不是继续往下研究,而是放飞自我。
  他决定试试在缓冲层中采用gan而非aln的方法。
  具体思路是在低温生长的非结晶状态的gan膜之上,在高温条件下生长出gan单晶膜。只要这个取得成功,就可以制出与在底板上直接生长单晶gan膜相同的构造。
  按照这个思路,中村进行了尝试。
  结果嘛,一次成功!
  这种方法的核心,是采用了低温 gan 缓冲层(500 c左右)替代了aln缓冲层。这一基于低温gan缓冲层的“两步法”工艺,成为日后工业界生长gan基led的标准工艺。
  当然了,做出这步改良的理由,也是异常奇怪。中村给出的解释居然是,别人用过的方法,我不用!
  这种“二”的说话方式,成永兴也用过!
  不就是强词夺理嘛!
  谁不会啊!
  你有种!
  别人对的方法,你也别用!
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  第四关,退火工艺。
  led从本质上说是一个二极管,二极管的核心结构是半导体 p-n 结。p-n 结是由 n 型半导体(内部含有大量自由电子)和 p 型半导体(内部含有大量带正电的自由载流子——空穴)组成的界面。
  对 gan 而言,n型掺杂比较容易实现,但 p 型掺杂却十分困难。在 gan 中经常使用的 p 型掺杂剂是 zn 或者 mg,但是掺入这些杂质后,gan 往往仍体现高阻特性,这意味着 p 型掺杂剂并没有被激活,没有起作用。
  这个问题曾困惑了科学界很久,最后也是被天野浩解决的。解决方法是用低能电子束辐照方法来获得p-gan。
  这个方法的发现,天野浩也是耗时很久。他从86年起就一直在尝试,直到89年,才突然碰运气得到。
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  在这个步骤上,中村大侠的“二”病再此发作!
  他再次推翻了前面科学家的研究成果,改为加热!
  这也就是所谓退火工艺的由来。
  根据中村自己的解释,他是在非常偶然情况下,得到了这个意外结果。
  在重复电子束照射实验前,他不小心把工作台给加热了!于是,他就发现,在电子束辐照过程中,在样品下面加热可以获得更好的结果。
  对此现象,他又继续研究,进而确认,仅仅依靠加热就可以获得p-gan。而退火工艺的原理,中村大侠并没有给出合理的解释。 ↑返回顶部↑


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